Lateres silicei refractarii igni resistentes excellentes Sinenses ex officina venditionis et fabricatoribus | Rongsheng

Descriptio Brevis:

Lateres refractarii siliconis inter materias refractarias siliconis pertinent; lateres siliconis genus materiarum refractariarum qualitatis optimae sunt, cum plus quam 93% SiO2 contento. Lateres refractarii siliconis proprietates excellentes habent: bona resistentia corrosioni acidae, magna conductivitate caloris, magna refractarietate sub onere supra 1620℃. Praeterea, lateres siliconis fracturas habent fortem resistentiam erosioni scoriae acidae, magnam refractarietatem sub onere, et stabilitatem voluminis sub alta temperatura. Lateres refractarii siliconis imprimis in furno coquendi, foco aperto, furno vitreo, furno ceramico, camino explosivo, etc. adhibentur.


Detalia Producti

Etiquettae Productarum

Lateres refractarii silicei acidis refractarii sunt et bonam resistentiam erosioni scoriae acidicae habent. Refractarietas laterum siliceorum sub onere usque ad 1640~1690℃ est, temperatura initialis mollitionis apparente 1620~1670℃ est et densitas vera 2.35g/cm3 est. Lateres refractarii silicei in alta temperatura diu servire possunt et stabilitatem voluminis sine transformatione servant. Lateres refractarii silicei plus quam 94% SiO2 continent. Lateres silicei resistentiam superiorem altae temperaturae et resistentiam humilem ictui thermali habent. Lateres refractarii silicei ex minerali siliceo naturali ut materia prima fiunt, mineralizante idoneo addito ad quarzum in corpore viridi in tridymitum transformatum promovendum, et lente ad temperaturam 1350~1430℃ in atmosphaera reducente coquuntur. Cum calor ad 1450℃ pervenit, 1.5~2.2% expansionis voluminis totalis efficitur. Haec expansio posterior commissuras sigillatas faciet et curabit ut constructio bonam impermeabilitatem aeris et firmitatem structurae servet.

Proprietates Lateris Ignis Silicis

  • Bona resistentia erosioni acidae,
  • Robur altae temperaturae,
  • Alta refractarietas: 1690~1710°C,
  • Alta RUL: circiter 1620-1670℃,
  • Stabilitas voluminis ad altam temperaturam,
  • Bona resistentia ictui thermali.

Compositio Lateris Ignis Silicae

Later refractarius siliconis est later refractarius in quo plus quam 93% silicae continet, 50%-80% tridymitam, 10%-30% cristobalitam, quarzum et phasem vitream, circiter 5%-15%. Compositio mineralogica lateris silicatis praecipue constat ex quarzo squamoso et quarzo, necnon parva quantitate quarzi et vitrei. Quartzum squamosum, quarzitum et quarzum residuum magnopere mutant volumine propter mutationem formae crystalli ad temperaturam humilem, itaque stabilitas thermalis lateris refractarii silicatis ad temperaturam humilem mala est. In processu usus, sub 800°C calefaciendum et refrigerandum tardatur, ne rimae fiant. Ergo non debet sub 800°C fluctuare temperatura fornacis.

Processus Fabricationis Laterum Silicae Igniferarum

Lateres refractarii silicati ex quarzite cum parva quantitate agentis mineralis fiunt. Cum alta temperatura comburuntur, lateres refractarii silicati ex quarzo squamoso, quarzo quartzito, vitro, aliisque textibus phasium complexarum alta temperatura formatis compositi sunt, et contentum AiO2 plus quam 93% est. Inter lateres silicatos melius coctos, contentum quarzi squamosi altum est, 50%~80% repraesentans. Deinde cristobalitum venit, solum 10%~30% repraesentans. Contentum quarzi et phasium vitrearum inter 5% et 15% fluctuat.

Specificationes Laterum Igniferorum Silicae Refractariae Rongsheng

Res/Index QG-0.8 QG-1.0 QG-1.1 QG-1.15 QG-1.2
SiO2% ≥88 ≥91 ≥91 ≥91 ≥91
Densitas Massae g/cm³ ≤0.85 ≤1.00 ≤1.10 ≤1.15 ≤1.20
Robur Frigidum Confractionis Mpa ≥1.0 ≥2.0 ≥3.0 ≥5.0 ≥5.0
0.2Mpa Refractarietas Sub Onus T0.6℃ ≥1400 ≥1420 ≥1460 ≥1500 ≥1520
Mutatio linearis permanens in recalefactione % 1450℃*2h 0~+0.5 0~+0.5 0~+0.5 0~+0.5 0~+0.5
Expansio thermalis 20~1000℃ 10~6/℃ 1.3 1.3 1.3 1.3 1.3
Conductivitas thermalis (w/m*k) 350℃ 0.55 0.55 0.6 0.65 0.7

Applicatio Lateris Ignis Silicae

Lateres refractarii silicei praecipue adhibentur ut materiae refractariae pro pariete tutelari camerae coquendi et combustoris in fornace coquendi, camera regenerativa et loculo scoriae in fornace foco aperto chalybis fabricandae, fornace macerationis et fornace liquefactionis vitri, et aliis areis ponderantibus et cacumine in fornace coquendi ceramicae. Lateres silicati etiam adhiberi possunt pro area ponderantibus in alta temperatura et cacumine fornacis foco aperto acidi.


  • Praecedens:
  • Deinde:

  • Nuntium tuum hic scribe et nobis mitte.