Lateres refractarii silicei acidis refractarii sunt et bonam resistentiam erosioni scoriae acidicae habent. Refractarietas laterum siliceorum sub onere usque ad 1640~1690℃ est, temperatura initialis mollitionis apparente 1620~1670℃ est et densitas vera 2.35g/cm3 est. Lateres refractarii silicei in alta temperatura diu servire possunt et stabilitatem voluminis sine transformatione servant. Lateres refractarii silicei plus quam 94% SiO2 continent. Lateres silicei resistentiam superiorem altae temperaturae et resistentiam humilem ictui thermali habent. Lateres refractarii silicei ex minerali siliceo naturali ut materia prima fiunt, mineralizante idoneo addito ad quarzum in corpore viridi in tridymitum transformatum promovendum, et lente ad temperaturam 1350~1430℃ in atmosphaera reducente coquuntur. Cum calor ad 1450℃ pervenit, 1.5~2.2% expansionis voluminis totalis efficitur. Haec expansio posterior commissuras sigillatas faciet et curabit ut constructio bonam impermeabilitatem aeris et firmitatem structurae servet.
Later refractarius siliconis est later refractarius in quo plus quam 93% silicae continet, 50%-80% tridymitam, 10%-30% cristobalitam, quarzum et phasem vitream, circiter 5%-15%. Compositio mineralogica lateris silicatis praecipue constat ex quarzo squamoso et quarzo, necnon parva quantitate quarzi et vitrei. Quartzum squamosum, quarzitum et quarzum residuum magnopere mutant volumine propter mutationem formae crystalli ad temperaturam humilem, itaque stabilitas thermalis lateris refractarii silicatis ad temperaturam humilem mala est. In processu usus, sub 800°C calefaciendum et refrigerandum tardatur, ne rimae fiant. Ergo non debet sub 800°C fluctuare temperatura fornacis.
Lateres refractarii silicati ex quarzite cum parva quantitate agentis mineralis fiunt. Cum alta temperatura comburuntur, lateres refractarii silicati ex quarzo squamoso, quarzo quartzito, vitro, aliisque textibus phasium complexarum alta temperatura formatis compositi sunt, et contentum AiO2 plus quam 93% est. Inter lateres silicatos melius coctos, contentum quarzi squamosi altum est, 50%~80% repraesentans. Deinde cristobalitum venit, solum 10%~30% repraesentans. Contentum quarzi et phasium vitrearum inter 5% et 15% fluctuat.
| Res/Index | QG-0.8 | QG-1.0 | QG-1.1 | QG-1.15 | QG-1.2 |
| SiO2% | ≥88 | ≥91 | ≥91 | ≥91 | ≥91 |
| Densitas Massae g/cm³ | ≤0.85 | ≤1.00 | ≤1.10 | ≤1.15 | ≤1.20 |
| Robur Frigidum Confractionis Mpa | ≥1.0 | ≥2.0 | ≥3.0 | ≥5.0 | ≥5.0 |
| 0.2Mpa Refractarietas Sub Onus T0.6℃ | ≥1400 | ≥1420 | ≥1460 | ≥1500 | ≥1520 |
| Mutatio linearis permanens in recalefactione % 1450℃*2h | 0~+0.5 | 0~+0.5 | 0~+0.5 | 0~+0.5 | 0~+0.5 |
| Expansio thermalis 20~1000℃ 10~6/℃ | 1.3 | 1.3 | 1.3 | 1.3 | 1.3 |
| Conductivitas thermalis (w/m*k) 350℃ | 0.55 | 0.55 | 0.6 | 0.65 | 0.7 |
Lateres refractarii silicei praecipue adhibentur ut materiae refractariae pro pariete tutelari camerae coquendi et combustoris in fornace coquendi, camera regenerativa et loculo scoriae in fornace foco aperto chalybis fabricandae, fornace macerationis et fornace liquefactionis vitri, et aliis areis ponderantibus et cacumine in fornace coquendi ceramicae. Lateres silicati etiam adhiberi possunt pro area ponderantibus in alta temperatura et cacumine fornacis foco aperto acidi.